半導体製造に欠かせないフォトレジストにPFASは使用されます。
フォトレジストは、半導体製造プロセスにおいて光を使ってパターンを形成するための液体状の材料です。
主に半導体製造プロセスでのリソグラフィー（写真製版）プロセスに使用されます。
具体的には、フォトレジストは半導体ウェハー表面に塗布され、その後、レジスト上にパターン化されたマスキングからの光を照射します。
この光の影響でフォトレジストが化学反応を起こし、特定のパターンがウェハー表面に形成されます。
このプロセスによって、回路の微細な構造を形成することが可能になります。
フォトレジストはUV光やエレクトロンビームなどの光源に対して反応します。
フォトレジストの選択や処理条件の調整によって、微細なパターンの形成や高解像度の製造が可能となります。
フォトレジストは半導体製造に欠かせません。
現在、世界市場では日本企業のシェアが高く、PFAS代替においても日本企業の研究開発が期待されます。
（長谷川 祐）